龙图光罩：公司40nm-28nm半导体掩模版出产线扶植

　　证券日报网6月30日讯 ，龙图光罩正在接管调研者提问时暗示，公司40nm-28nm半导体掩模版出产线扶植项目（珠海二期）总投资为195436。81万元，拟利用募集资金146000。00万元，不脚部门由公司以自有或自筹资金处理。扶植地址位于珠海市，取现有珠海工场位于统一厂区，但具有彼此的厂房和产线个月。项目完全达产后，将新增40nm-28nm制程半导体掩模版年产能15000片，产物次要面向高端模仿IC、MCU等下逛使用场景，全面填补公司高端制程产能空白。除现有的二元掩模版和相移掩模版外，还将添加KrF-PSM。